詳細(xì)摘要： nanoArch科研級3D打印機(jī)M160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多...

詳細(xì)摘要： nanoArch 3D打印機(jī)P140/S140 ，科研級3D打印系統(tǒng)，擁有10m的超高打印精度和10m的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和...

詳細(xì)摘要： nanoArch微納3D打印機(jī) P130/S130 ，科研級3D打印系統(tǒng)，擁有2m的超高打印精度和5m的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和...

詳細(xì)摘要： 英國Nanobean NB5 電子束光刻機(jī)，具有良好的穩(wěn)定性，平均正常運(yùn)行時間超過93%。

詳細(xì)摘要： Durham Microwriter ML3 小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)，是英國Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，為微流控、SAW、...

詳細(xì)摘要： 瑞士NanoFrazor 3D納米結(jié)構(gòu)高速直寫機(jī)，源于發(fā)明STM和AFM的IBM蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術(shù)的研究成果。NanoFrazor納米3D結(jié)構(gòu)直...

詳細(xì)摘要： 德國Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng),科研/生產(chǎn)兼用 ， 是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)...

詳細(xì)摘要： 德國 Raith Pioneer Two 電子束光刻機(jī),系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運(yùn)動行程為50 x 50 x 25mm，XY方向定位精度為2nm，可...

詳細(xì)摘要： 德國Raith EBPG5150 電子束光刻機(jī),可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。高束流密度，熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切...

詳細(xì)摘要： 德國Raith Voyager 新一代電子束光刻系統(tǒng),高速且價格合理的電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)精確的曝光效果.

詳細(xì)摘要： 德國 Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8晶元及以下樣片。

詳細(xì)摘要： 德Zeiss Sigma SEM 電子束直寫儀，利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（最小線寬為10nm），是研究材料...

詳細(xì)摘要： 海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機(jī)VPG+ 200，VPG+400，大尺寸掩膜版生產(chǎn)工具，平行化曝光制程技術(shù)，大型光學(xué)系統(tǒng)上的創(chuàng)新與突破。

詳細(xì)摘要： VPG1600海德堡Heidelberg 終級型大尺寸掩膜版生產(chǎn)工具,是海德堡科技在大型光學(xué)系統(tǒng)上科技的創(chuàng)新與突破的里程碑。其利用的技術(shù)寬闊的平行化曝光制程技術(shù)...

詳細(xì)摘要： 海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機(jī)VPG+ 800,大尺寸掩膜版生產(chǎn)工具,平行化曝光制程技術(shù)。

詳細(xì)摘要： DWL 8000 海德堡Heidelberg 高級大型2D，3D直寫設(shè)備,大面積瞄寫系統(tǒng).

詳細(xì)摘要： 德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)DWL 2000，DWL 4000科研型與量產(chǎn)型兼具的激光直寫設(shè)備高速、高靈活度與高精度的光學(xué)系統(tǒng)4096階灰階光...

詳細(xì)摘要： 德國海德堡 激光直寫光刻機(jī) MLA100：適合用科研領(lǐng)域的中小型實(shí)驗(yàn)室與大學(xué)研究所，支持套刻直寫功能，面積為60x75cm的MLA100設(shè)計(jì)用于安裝在中小型的研...

詳細(xì)摘要： 德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機(jī)PG 101, 臺式激光直寫機(jī),適合用于科研領(lǐng)域,操作簡單，可支持灰度光刻.該系統(tǒng)可用于MEMS、Bio MEMS...

詳細(xì)摘要： 美國Trion Technology反應(yīng)式離子刻蝕(RIE/ICP)系統(tǒng)及沉積(PECVD)系統(tǒng)，含整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，及簡單的實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用系統(tǒng)，占地面積小，...