VPG+ 200，VPG+400德國(guó)海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機(jī)

海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機(jī)VPG+ 200，VPG+400

大尺寸掩膜版生產(chǎn)工具
平行化曝光制程技術(shù)
大型光學(xué)系統(tǒng)上的創(chuàng)新與突破

的VPG（Volume Pattern Generator）系列-安裝已超過50臺(tái)。自成立以來，隨著技術(shù)的進(jìn)步，VPG產(chǎn)能不斷得到進(jìn)一步提升。整體的高速光學(xué)調(diào)制器有了飛躍性表現(xiàn)-升級(jí)后的系列稱之為：VPG+。

VPG+系統(tǒng)同步提供小面積和大面積曝光的設(shè)備。VPG+200和VPG+400是海德堡設(shè)備中的中小型高速曝光系統(tǒng)，以大面積VPG平臺(tái)所采用的運(yùn)作原理，同步保留小面積光刻領(lǐng)域的技術(shù)。

速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發(fā)的高速光學(xué)調(diào)制器，在速度下，曝光時(shí)間可以達(dá)到原始VPG的三倍！強(qiáng)化了曝光性能與數(shù)據(jù)傳輸路徑。

功能和選項(xiàng)：配備性能
VPG+小面積系統(tǒng)采用波長(zhǎng)355nm的高功率脈沖紫外激光光源?？諝廨S承平臺(tái)能夠分別容納尺寸為200x200mm²或400x400mm²的基板。系統(tǒng)配備自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)功能和集成計(jì)量系統(tǒng)。

應(yīng)用：光罩制造和直接寫入
VPG+ 200和VPG+ 400將高分辨率的圖像結(jié)合優(yōu)化速度，以達(dá)到光刻產(chǎn)能，成為光罩制作及其他直寫應(yīng)用的設(shè)備，特別是使用SU-8或IP 3600等i-line光刻膠的應(yīng)用。該系統(tǒng)可用于各種要求微觀結(jié)構(gòu)的領(lǐng)域，典型應(yīng)用包括MEMS、advanced packaging、3D integration、LED production、life science和compound semiconductors。

基板尺寸的400 x 400毫米²

降至0.75µm結(jié)構(gòu)

地址網(wǎng)格減小到12.5 nm

多寫模式

自動(dòng)加載系統(tǒng)

多種數(shù)據(jù)輸入格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)

網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸

計(jì)量校準(zhǔn)系統(tǒng)

人工氣候室

階段地圖校正

邊緣檢測(cè)器單元

色差校正