海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機VPG+ 800

海德堡Heidelberg 掩膜版光刻機VPG+ 800/1100/1400
大尺寸掩膜版生產(chǎn)工具
平行化曝光制程技術(shù)

的VPG（Volume Pattern Generator）系列-安裝已超過50臺。自成立以來，隨著技術(shù)的進步，VPG產(chǎn)能不斷得到進一步提升。整體的高速光學(xué)調(diào)制器有了飛躍性表現(xiàn)-升級后的系列命名為：VPG+。

大光刻面積VPG+：技術(shù)的
大光刻面積的VPG +維持原VPG系列為根基再進化，使其更加出色。VPG于2007年推出; 是擁有的量產(chǎn)型曝光技術(shù)光刻系統(tǒng)，可靠和經(jīng)濟的解決方案，適用于要求嚴謹?shù)难谀ぐ逯圃臁?/span>

速度更快：超高速曝光
VPG+系列具有海德堡所研發(fā)的高速光學(xué)調(diào)制器，在速度下，曝光時間可以達到原始VPG的三倍！強化了曝光動能與數(shù)據(jù)傳輸路徑。

功能和選項：配備性能
VPG +可配置各種平臺尺寸，可達1400mmx1400mm。 該系統(tǒng)具有355nm波長的紫外激光源，空氣軸承平臺，半自動或全自動入料器，用于基板裝載和的溫控環(huán)境室。

應(yīng)用：光罩制造和直接寫入
大光刻面積的VPG +系統(tǒng)適用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light emitting diodes, touch panel以及l(fā)ife science應(yīng)用。出色的圖像質(zhì)量和對位功能，也非常適合在大面積執(zhí)行多層套刻直寫。

VPG+ 型的設(shè)備VPG+ 1400專門針對顯示器相關(guān)行業(yè)應(yīng)用：是所有VPG+系列中功能大，具有極其完善的溫控環(huán)境室，差分干涉儀和*的mura校正以及面板間距優(yōu)化功能。

Application

Micro-optics, MEMS, Display, Micro sensor

功能: Function

Substrates up to size of 800 x 800, 1100 x 1100 and 1400 x 1400 mm² respectively Minimum structure size: 0.75µm Address grid down to 12.5nm Ultra-high-speed exposure engine High power DPSS laser with 355nm Multiple write modes Automatic write mode exchanger Metrology and alignment system Climate chamber Online data transfer Automatic loading system Multiple data input formats(DXF, CIF, GDSII, Gerber) Stage map correction Edge detector unit Mura correctio