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納米粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于納米粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致納米粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。

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所以為了解決這一問題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散，盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對(duì)粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液、納米懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機(jī)采用zuijia幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

高剪切膠體磨運(yùn)行原理：

高剪切膠體磨在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團(tuán)、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級(jí)，越向外延伸一級(jí)磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細(xì)，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級(jí)流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強(qiáng)烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個(gè)精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。

              
IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：

三道磨碎區(qū)：一級(jí)為粗磨碎區(qū)，二級(jí)為細(xì)磨碎區(qū)，三級(jí)為超微磨碎區(qū)。

我們的磨頭的結(jié)構(gòu)：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。

CM2000系列的特點(diǎn)：

1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

CM2000系列納米粉體膠體磨設(shè)備選型表

注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10% 

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