氫氧化物，納米氫氧化鎂分散機，氫氧化鎂漿料高速分散機，氫氧化鎂研磨分散機，納米氫氧化鎂分散機，氫氧化鎂分散機，納米分散機，氫氧化鎂研磨分散機，納米研磨分散機，氫氧化鎂是塑料、橡膠制品優(yōu)良的阻燃劑。在環(huán)保方面作為煙道氣脫硫劑，可代替燒堿和石灰作為含酸廢水的中和劑。亦用作油品添加劑，起到防腐和脫硫作用。另外，還可用于電子行業(yè)、醫(yī)藥、砂糖的精制，作保溫材料以及制造其他鎂鹽產品。
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在幾乎不影響使用強度的情況下顯著提高材料的阻燃、抑煙、防滴等性能，還可根據客戶需要，在納米氫氧化鎂生成同時采用適當?shù)脑桓男苑椒?，為阻燃氫氧化鎂。
納米氫氧化鎂一般作為改性劑分散到某物質當中（如橡膠），從而改性物料的特性，zui大的用途便是作為助燃劑。改性的效果取決于納米氫氧化鎂的分散效果。納米級的粉末分散到液體介質當中容易出現(xiàn)團聚現(xiàn)象，一般的分散設備無法解決這一難點，而IKN研磨式分散機可以很好的應對團聚的現(xiàn)象。
IKN納米氫氧化鎂研磨式分散機，是由膠體磨+高剪切分散機組成，形成一體化的設備，先研磨后分散，避免物料團聚。
CMD2000系列研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。
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*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。，氫氧化鎂漿料高速分散機，氫氧化鎂研磨分散機
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