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半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)

參考價(jià)	￥ 158384
訂貨量	≥1臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
品牌冠亞制冷
型號(hào)FLT-002
所在地無錫市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2023/12/20 13:28:17
訪問次數(shù)308

產(chǎn)品標(biāo)簽:

半導(dǎo)體?溫控設(shè)備半導(dǎo)體溫控設(shè)備chiller 氣體降溫控溫Chiller 半導(dǎo)體直冷機(jī)chiller 射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)

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公司介紹主營產(chǎn)品

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的GAO端裝備制造企業(yè)，專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng)、超低溫冷凍機(jī)、半導(dǎo)體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統(tǒng)等專用設(shè)備，廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥化工、半導(dǎo)體、新能源、儲(chǔ)能、數(shù)據(jù)中心、太陽能光伏等領(lǐng)域。

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗(yàn)的高素質(zhì)專業(yè)設(shè)計(jì)人員的研發(fā)隊(duì)伍。特別是反應(yīng)釜高精度控溫為單一介質(zhì)控制-90度～+250度連續(xù)控溫，并且高精度線性控制反應(yīng)釜物料溫度。產(chǎn)品溫度范圍涉及-152度到350度。

門頭.jpg

我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產(chǎn)力。

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制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應(yīng)釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機(jī)、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩(wěn)定性測(cè)試箱、試驗(yàn)箱、培養(yǎng)箱、加熱制冷恒溫槽等設(shè)備。

產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	國產(chǎn)	產(chǎn)品大小	小型
產(chǎn)品新舊	全新	結(jié)構(gòu)類型	半封閉式,立式
結(jié)構(gòu)類型	半封閉式,立式	溫度	低溫冷水機(jī)

【無錫冠亞】半導(dǎo)體控溫解決方案主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)

半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī) 產(chǎn)品信息

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的半導(dǎo)體控溫解決方案

主要產(chǎn)品包括半導(dǎo)體專?溫控設(shè)備、射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)和半導(dǎo)體??藝廢?處理裝置等?設(shè)備，

?泛應(yīng)?于半導(dǎo)體、LED、LCD、太陽能光伏等領(lǐng)域。

半導(dǎo)體行業(yè)主營控溫產(chǎn)品：

半導(dǎo)體專溫控設(shè)備

射流式?低溫沖擊測(cè)試機(jī)

半導(dǎo)體專用溫控設(shè)備chiller

Chiller氣體降溫控溫系統(tǒng)

Chiller直冷型

循環(huán)風(fēng)控溫裝置

半導(dǎo)體?低溫測(cè)試設(shè)備

電?設(shè)備?溫低溫恒溫測(cè)試?yán)錈嵩?/span>

射流式高低溫沖擊測(cè)試機(jī)

快速溫變控溫卡盤

數(shù)據(jù)中心液冷解決方案

型號(hào)	FLT-002	FLT-003	FLT-004	FLT-006	FLT-008	FLT-010	FLT-015
型號(hào)	FLT-002W	FLT-003W	FLT-004W	FLT-006W	FLT-008W	FLT-010W	FLT-015W
溫度范圍	5℃～40℃
控溫精度	±0.1℃
流量控制	10～25L/min 5bar max		15～45L/min 6bar max			25～75L/min 6bar max
制冷量at10℃	6kw	8kw	10kw	15 kw	20kw	25kw	40kw
內(nèi)循環(huán)液容積	4L	5L	6L	8L	10L	12L	20L
膨脹罐容積	10L	10L	15L	15L	20L	25L	35L
制冷劑	R410A
載冷劑	硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等（DI溫度需要控制10℃以上）
進(jìn)出接口	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG3/4	ZG3/4	ZG1	ZG1
冷卻水口	ZG1/2	ZG1/2	ZG3/4	ZG1	ZG1	ZG1	ZG1 1/8
冷卻水流量at20℃	1.5m3/h	2m3/h	2.5m3/h	4m3/h	4.5m3/h	5.6m3/h	9m3/h
電源380V	3.5kW	4kW	5.5kW	7kW	9.5kW	12kW	16kW
溫度擴(kuò)展	通過增加電加熱器，擴(kuò)展-25℃～80℃

790卡盤_01.jpg

液冷790_01.jpg

半導(dǎo)體循環(huán)冷水機(jī)Chiller 分析裝置制冷機(jī)

　　隨著半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)的發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)設(shè)備的要求也越來越高。其中，多晶硅刻蝕雙通道chiller冷卻設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中的一種設(shè)備，在半導(dǎo)體制造過程中，需要將芯片冷卻到低的溫度，以確保其性能和穩(wěn)定性。

　　其中，多晶硅刻蝕雙通道chiller是一種常見的半導(dǎo)體冷卻設(shè)備。它通過將冷卻劑循環(huán)使用，將芯片冷卻到所需的溫度范圍。多晶硅刻蝕雙通道chiller的主要功能是提供穩(wěn)定的溫度控制，以確保芯片在制造過程中的穩(wěn)定性和可靠性。

　　在半導(dǎo)體行業(yè)中，多晶硅刻蝕雙通道chiller的應(yīng)用非常廣泛。它不僅用于制造芯片，還用于制造集成電路、光電子器件和其他半導(dǎo)體器件。此外，多晶硅刻蝕雙通道chiller還可以用于其他領(lǐng)域，如新能源電池電機(jī)中進(jìn)行高低溫測(cè)試用等。

　　在半導(dǎo)體制造過程中，多晶硅刻蝕雙通道chiller不僅可以提供穩(wěn)定的溫度控制，還可以減少熱噪聲和熱膨脹等效應(yīng)，從而提高芯片的性能和穩(wěn)定性。此外，多晶硅刻蝕雙通道chiller還可以提高生產(chǎn)效率，減少生產(chǎn)成本。

　　在選擇半導(dǎo)體行業(yè)用多晶硅刻蝕雙通道chiller時(shí)，需要考慮多個(gè)因素。需要確定所需的冷卻功率和溫度范圍。其次，需要考慮設(shè)備的可靠性、穩(wěn)定性和易用性。另外，需要考慮設(shè)備的成本和維護(hù)成本。

　　總之，半導(dǎo)體行業(yè)用多晶硅刻蝕雙通道chiller是半導(dǎo)體制造過程中的一部分。它可以提供穩(wěn)定的溫度控制，還可以提高生產(chǎn)效率，減少生產(chǎn)成本。因此，選擇合適的半導(dǎo)體行業(yè)用多晶硅刻蝕雙通道chiller對(duì)于半導(dǎo)體制造企業(yè)來說有一定影響。