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影響閃存 Flash/EMMC 高低溫測試運行的因素

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  • 公司名稱無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號AES-A1035W
  • 所  在  地無錫市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2020/8/21 11:41:59
  • 訪問次數(shù)1252
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無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的GAO端裝備制造企業(yè),專業(yè)生產(chǎn)研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng)、超低溫冷凍機、半導體控溫Chiller、新能源用控溫控流量系統(tǒng)等專用設備,廣泛應用于醫(yī)藥化工、半導體、新能源、儲能、數(shù)據(jù)中心、太陽能光伏等領(lǐng)域。


無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司擁有數(shù)位在超低溫、高低溫開發(fā)方面具有豐富經(jīng)驗的高素質(zhì)專業(yè)設計人員的研發(fā)隊伍。特別是反應釜高精度控溫為單一介質(zhì)控制-90度~+250度連續(xù)控溫,并且高精度線性控制反應釜物料溫度。產(chǎn)品溫度范圍涉及-152度到350度。


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我們的成功源自于不懈地幫助客戶提高生產(chǎn)力。



制冷加熱循環(huán)器、加熱制冷控溫系統(tǒng)、反應釜溫控系統(tǒng)、加熱循環(huán)器、低溫冷凍機、低溫制冷循環(huán)器、冷卻水循環(huán)器、工業(yè)冷處理低溫箱、超低溫保存箱、藥品穩(wěn)定性測試箱、試驗箱、培養(yǎng)箱、加熱制冷恒溫槽等設備。
操作方式 連續(xù)式 產(chǎn)地 國產(chǎn)
產(chǎn)品大小 中型 產(chǎn)品新舊 全新
定時功能 結(jié)構(gòu)類型 立式
控溫范圍 -10℃~+200℃ 自動化程度 全自動
無錫冠亞射流式高低溫沖擊測試機給芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供快速的環(huán)境溫度。是對產(chǎn)品電性能測試、失效分析、可靠性評估*的儀器設備。廣泛應用于半導體企業(yè)、航空航天、光通訊、高校、研究所等領(lǐng)域。影響閃存 Flash/EMMC 高低溫測試運行的因素
影響閃存 Flash/EMMC 高低溫測試運行的因素 產(chǎn)品信息

<strong><strong><strong><strong>高速低溫沖擊熱流儀不制冷原因</strong></strong></strong></strong> 

 影響閃存 Flash/EMMC 高低溫測試運行的因素

影響閃存 Flash/EMMC 高低溫測試運行的因素

  什么是溫度均勻度?閃存 Flash/EMMC 高低溫測試在穩(wěn)定狀態(tài)下,工作空間在某一瞬間時任意兩點之間溫度的差值。主要影響高低溫交變試驗箱溫度均勻度的因素有如下6點:

  1、密封性:箱體和門的密封性不嚴,比如:密封條非定制的有接縫以及大門漏氣等,從而影響工作空間的溫度均勻性。

  2、箱體結(jié)構(gòu):由于溫濕度試驗箱內(nèi)壁結(jié)構(gòu)不同,所以導致試驗箱內(nèi)壁的溫度也會不均勻,進一步的對工作室內(nèi)的熱對流形成影響從而造成內(nèi)部溫度均勻度產(chǎn)生偏差。

  3、熱負載因素:如果試驗箱工作室內(nèi)放置了足夠影響內(nèi)部整體熱對流的試驗樣品,就必然會在一定的程度上來影響內(nèi)部溫度的均勻性,比如說放置LED照明產(chǎn)品,其產(chǎn)品自身就存在著發(fā)光發(fā)熱的情況,成為熱負載,那么對于溫度均勻度的就存在很大的影響。

  4、熱傳遞:由于工作室的箱壁前后左右上下6個面的傳熱系數(shù)不同,因有的有穿線孔、檢測孔、測試孔等小細節(jié)的設計會導致局部有散熱、傳熱,使設備箱體有溫度不均勻現(xiàn)象,而使箱壁幅射的對流傳熱也會不均勻,影響溫度均勻。

  5、熱輻射:設計上的問題導致試驗箱在內(nèi)部結(jié)構(gòu)、空間的設計很難達到均勻的對稱結(jié)構(gòu),溫濕度試驗箱而不對稱的結(jié)構(gòu)必然會導致內(nèi)部溫度均勻度產(chǎn)生偏差,這個層面它主要的是反映在鈑金設計與它的處理兩方面,比如風道的設計、發(fā)熱管的放置位置、風機功率的大小等原因;

  6、樣品和箱體體積的比例及擺放的合理性:如果樣品體積過大,或者樣品放置在試驗箱內(nèi)的位置或者方式不合理,使艙內(nèi)的空氣對流受阻,也會影響溫度均勻度。

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