詳細(xì)摘要： 德國(guó)Allresist紫外光刻膠（Photoresist） 各種工藝：噴涂專(zhuān)用膠，化學(xué)放大膠，lift-off 膠，圖形反轉(zhuǎn)膠，高分辨率膠，LIGA 用膠等。 ...

詳細(xì)摘要： OAI Model 212型桌面掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng), 輸出光譜范圍:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 n...

詳細(xì)摘要： OAI Model 800E 型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，各種光譜范圍選項(xiàng):Hg燈:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm線(xiàn)，Hg-Xe燈:26...

詳細(xì)摘要： OAI 掩膜光刻機(jī) Model 6000型，高吞吐量180 wph，靈活處理基板從2平方到12平方

詳細(xì)摘要： OAI的面板級(jí)掩模光刻機(jī) Model 6020S, 用于FOPLP型號(hào)6020S -半自動(dòng)化或自動(dòng)化,實(shí)現(xiàn)500mm x 500mm晶圓尺寸的FO-PLP加工.

詳細(xì)摘要： BRUKERHysitron TI 980 TriboIndenter 加速納米力學(xué)研究進(jìn)入更高階段,同時(shí)具有的性能、靈活性、可信度、實(shí)用性和速度。基于海思創(chuàng)幾...

詳細(xì)摘要： NIE-4000 離子束刻蝕系統(tǒng)，NIR-4000 IBE/RIE 雙刻蝕系統(tǒng)，通過(guò)加速的 Ar 離子進(jìn)行物理刻蝕或銑削。對(duì)于硅的化合物也可以通過(guò)反應(yīng)離子束刻蝕...

詳細(xì)摘要： MLA桌面無(wú)掩模光刻機(jī)

詳細(xì)摘要： 美Sonix 超聲波掃描顯微鏡 ECHO-VS，是專(zhuān)為更高精度要求，更復(fù)雜元器件設(shè)計(jì)的新一代設(shè)備， 掃描分辨率小于1微米

詳細(xì)摘要： 美 Sonix 全自動(dòng)超聲波掃描顯微鏡ECHO Pro , 批量 Tray盤(pán)和框架直接掃瞄, 編程自動(dòng)判別缺陷, 高產(chǎn)量,無(wú)需人員重復(fù)設(shè)置, 自動(dòng)烘干.

詳細(xì)摘要： 美Sonix超聲波掃描顯微鏡 ECHO LS,可檢測(cè)最小 0.05 微米的缺陷，它是一款的檢測(cè) bump, 堆疊芯片(三維封裝)，復(fù)雜 flipchip 和傳統(tǒng)...

詳細(xì)摘要： 美SonixAutoWaferPro晶圓檢測(cè)設(shè)備，專(zhuān)為全自動(dòng)晶圓檢測(cè)設(shè)計(jì)的機(jī)型，使用于 200 和 300MM晶圓。

詳細(xì)摘要： 日本Elionix 微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫(xiě)機(jī)ELS-F125，是Elionix推出的世界上*加速電壓達(dá)125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線(xiàn)寬下限為5nm...

詳細(xì)摘要： 日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) ELS-F150, 是一個(gè)150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米級(jí)用于高級(jí)研究的設(shè)備制造。

詳細(xì)摘要： ELS-BODEN新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400MHz頻率生產(chǎn)

詳細(xì)摘要： 布魯克Bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 Contour X, 滿(mǎn)足微納米表面測(cè)量需要

詳細(xì)摘要： JSM-7610FPlus，用于納米科學(xué)的肖特基場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡， 是一款采用半浸沒(méi)式物鏡、擁有超高分辨率的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡，能觀察微細(xì)結(jié)構(gòu)和進(jìn)行微區(qū)元...

詳細(xì)摘要： DWL 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫(xiě)模塊，實(shí)現(xiàn)不同精度直寫(xiě)需求, 能于結(jié)構(gòu)上進(jìn)行灰度曝光

詳細(xì)摘要： OmegaPrepRKD 研磨開(kāi)封機(jī)，大尺寸晶背減薄，維持最小的晶面變異

詳細(xì)摘要： ContourX-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備