制藥網(wǎng)
詳細(xì)介紹
使多功能光掩模制造
具有的靈活性
FPS6100傳遞的畫(huà)面質(zhì)量和生產(chǎn)效率有所提高，符合當(dāng)下更為*的多功能市場(chǎng)細(xì)分的要求。
許多應(yīng)用和生產(chǎn)環(huán)境可以設(shè)置FPS6100：電子包裝、觸摸屏、濾色鏡、精細(xì)的金屬膜片、3D模具等等。這意味著你可以充分利用現(xiàn)行產(chǎn)品體系，同時(shí)瞄準(zhǔn)新的商機(jī)。
與之前的FPS5500相比，F(xiàn)PS6100能夠提供更高的曝光速度以及更優(yōu)質(zhì)的畫(huà)面質(zhì)量。如果您的FPS系統(tǒng)是老一代的，您可以將它升級(jí)至FPS6100系列，不僅節(jié)省成本同時(shí)提高經(jīng)營(yíng)的能力和質(zhì)量。
主要優(yōu)勢(shì)：
- 生產(chǎn)效率提高，曝光速度更快，減少輔助操作時(shí)間
- 畫(huà)面質(zhì)量更優(yōu)質(zhì)，更小的成像單位
- 6種曝光水平和干板曝光的平臺(tái)可擴(kuò)展性
- FPS5100/5300/5500可升級(jí)
技術(shù)指標(biāo)
FPS6100 | Lvl 80 | Lvl 60 | Lvl 40 |
曝光速度[mm²/min] | 525 | 1250 | 2600 |
最小L/S 溶解（pitch/2） | 0.75 | 1.2 | 2.0 |
CD均勻性3σ [nm] | 30 | 40 | 60 |
套合3σ[nm] | 70 | 85 | 100 |
掩膜尺寸 [mm] | 813x813* | ||
FPS6100 | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
曝光速度[mm²/min] | 6000 | 8000 | 12000 |
最小L/S 溶解（pitch/2） | 3.5 | 5.0 | 7.0 |
CD均勻性3σ [nm] | 80 | 100 | 200 |
套合3σ[nm] | 120 | 140 | 160 |
掩膜尺寸 [mm] | 813x813* | ||
FPS6100E | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
曝光速度[mm²/min] | 5000 | 8000 | 12000 |
最小L/S 溶解（pitch/2） | 6.0 | 8.0 | 12.0 |
CD均勻性3σ [nm] | 600 | 700 | 900 |
套合3σ[nm] | 120 | 140 | 160 |
掩膜尺寸 [mm] | 813x813* | ||
* 掩膜可伸展尺寸到達(dá)可選擇的1100×1100 和 900×1200
技術(shù)指標(biāo)
FPS6100 | Lvl 80 | Lvl 60 | Lvl 40 |
曝光速度[mm²/min] | 525 | 1250 | 2600 |
最小L/S 溶解（pitch/2） | 0.75 | 1.2 | 2.0 |
CD均勻性3σ [nm] | 30 | 40 | 60 |
套合3σ[nm] | 70 | 85 | 100 |
掩膜尺寸 [mm] | 813x813* | ||
FPS6100 | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
曝光速度[mm²/min] | 6000 | 8000 | 12000 |
最小L/S 溶解（pitch/2） | 3.5 | 5.0 | 7.0 |
CD均勻性3σ [nm] | 80 | 100 | 200 |
套合3σ[nm] | 120 | 140 | 160 |
掩膜尺寸 [mm] | 813x813* | ||
FPS6100E | Lvl 25 | Lvl 20 | Lvl 15 |
曝光速度[mm²/min] | 5000 | 8000 | 12000 |
最小L/S 溶解（pitch/2） | 6.0 | 8.0 | 12.0 |
CD均勻性3σ [nm] | 600 | 700 | 900 |
套合3σ[nm] | 120 | 140 | 160 |
掩膜尺寸 [mm] | 813x813* | ||
* 掩膜可伸展尺寸到達(dá)可選擇的1100×1100 和 900×1200
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