詳細摘要： 上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 專為半導體生產而設計, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2022-03-09 在線留言干燥設備 粉碎設備 混合設備 反應設備 過濾分離設備 過濾材料 滅菌設備 萃取設備 貯存設備 傳熱設備 鍋爐 塔設備 結晶設備 其它制藥設備
伯東企業(yè)（上海）有限公司
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詳細摘要： 上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 專為半導體生產而設計, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2022-03-09 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 專為半導體生產而設計, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2022-03-09 在線留言
詳細摘要： 上海伯東 Europlasma 等離子機可實現 PS 等材質的細胞培養(yǎng)耗材表面水接觸角 WCA ＜10° 的親水特性. 醇標板經表面改性處理后擁有帶正...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2022-01-20 在線留言
詳細摘要： 一般使用寬束的工業(yè)用KRI離子源，都會使用中和器來達到使用激發(fā)電子中和離子的目的。常用來做中和器的像是熱燈絲，電漿橋，或是中空陰極。
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,離子能量強的柵極離子源, 適用于已知的所有離子源應用, 離子源 KDC ...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國 進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規(guī)格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國 進口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內,...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供中空陰極 e-Mission Hollow Cathodes 結構緊湊, 重量輕, 可以安裝在離子源或真空系統(tǒng)的側面, 相...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源提供多個類型的低能量高密度的電子源, 從簡單的熱電子燈絲模式到中空陰極模式,典型應用在等離子和離子工藝中的陰極和陽極中和器, ...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國 進口 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕.
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國 進口 KRI線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達 1 米, 通過嚴格調整模組間的距離可以實現佳的均...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上 高效, 提供 高離子束流的離...
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詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 2000 是一款更強大的版本, 帶有水冷方式, 他具備 eH 1000 所有的性能, 低成本設計提供高離子電流,...
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詳細摘要： 離子源 KDC 40 兼容惰性或活性氣體, 例如氧氣和氮氣. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 離子源 RFICP 40 無需電離燈絲設計, 適用于通氣氣體是活性氣體時的工業(yè)應用. 標準配置下 RFICP 40 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： KDC 75 提供緊密聚焦的電子束特別適合濺射鍍膜. 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 250 mA.
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 在離子刻蝕工藝中, 離子源與離子光學配合, 蝕刻更均勻. 標準配置下 RFICP 100 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以達到 400 m...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言
詳細摘要： 上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統(tǒng). 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和...
產品型號：所在地：上海市更新時間：2021-12-28 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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