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ELS-BODEN 新型電子束光刻系統(tǒng)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/22 20:25:34
  • 訪問次數(shù)255
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
ELS-BODEN 新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400MHz頻率生產(chǎn)
ELS-BODEN 新型電子束光刻系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

NEW ELS-BODEN Electron Beam Lithography System

新型ELS-BODEN 電子束光刻系統(tǒng)

ELS Series

ELS-BODEN Ó
Fastest in the industry!

業(yè)內(nèi)!
High speed scanning at 400MHz clock frequency for production

高速掃描400MHz頻率生產(chǎn)

Key Product Features

關(guān)鍵產(chǎn)品特性Fastest in the industry!

• The industry's fastest 400 MHz high speed scanning

業(yè)界的400mhz高速掃描
High speed beam scanning, 4 times faster than our previous products.

高速光束掃描,比我們以前的產(chǎn)品快4倍。
High current and narrow beam pitch, which was not possible until now.

大電流和窄波束間距,這是不可能的,直到現(xiàn)在。
The new system achieves faster and higher quality writing. It is ideal for the MPWS (field-polymerized writing).
新系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)更快和更高質(zhì)量的刻寫。它是MPWS(現(xiàn)場(chǎng)聚合刻寫)的理想選擇。
• Faster stage speed

階段的速度更快
Redesigned the stage to meet the demands of production applications and achieved higher speeds.

重新設(shè)計(jì)了工作臺(tái),以滿足生產(chǎn)應(yīng)用的要求,并實(shí)現(xiàn)了更高的速度。

• Inherits traditional Elionix technology

繼承了傳統(tǒng)的Elionix技術(shù)
150kV/125kV if the ultra-fine patterns are most important.

150kV/125kV如果超細(xì)圖案是最重要的。
100 kV for common system and wide variety of applications

100kv用于普通系統(tǒng)和廣泛的應(yīng)用
50 kV for high speed writing for the production.

50kv用于高速寫作,用于生產(chǎn)。
It can meet user's several requirements.

能滿足用戶多方面的要求。

Specification 規(guī)格參數(shù):

Emitter發(fā)射器

ZrO/W thermal field emitter熱場(chǎng)發(fā)射體

Acceleration Voltage 加速電壓

50kV

100kV

125kV

150kV

Beam Current 電子束電流

1nA to 1µA

20pA to 100nA

5pA to 100nA

5pA to 100nA

Minimum Beam Diameter 最小電子束直徑

Φ5nm

Φ1.8nm

Φ1.7nm

Φ1.5nm

Standard Field Size 標(biāo)準(zhǔn)寫場(chǎng)直徑

1000µm square

1000µm square

500µm square

500µm square

Min. / Max. Field size 最小/寫場(chǎng)尺寸

Min. 100µm square
Max. (option) 3000µm square

Scan Clock 掃描頻率

Max. 400MHz

Minimam Shot Pitch 最小投射距離

0.2nm

Maximum Specimen Size樣品尺寸

8" wafer / 12" wafer

Maximum Exposure Area 曝光面積

200mm × 200mm / 300mm × 300mm

Loading System

加載系統(tǒng)

Single cassette auto loader
Multiple cassette auto loader
12" FOUP Robot loader
Robot loader with PEB
Variable wafer size robot loader

單盒式自動(dòng)裝載機(jī)

多盒式自動(dòng)裝載機(jī)

12" FOUP 機(jī)器人裝載機(jī)

帶PEB的機(jī)器人裝載機(jī)

可變晶片尺寸的機(jī)器人裝載機(jī)

Software 軟件

elms

• Beam conditions
• Exposure schedule
• Pattern data converter
• Account management
• Python scripting

•電子束條件

接觸的時(shí)間表

•圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換器

•賬戶管理

•Python腳本

關(guān)鍵詞:機(jī)器人
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