EBPG5150 電子束光刻機(jī)
詳細(xì)介紹
EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺(tái),采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺(tái)設(shè)計(jì),對(duì)電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
高束流密度,熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換155mm的平臺(tái)。最小曝光特征尺寸小于8nm,高速度曝光,可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器。在所有KVs加速電壓下,可連續(xù)改變的寫場大小,可以到1mm。GUI人機(jī)交互界面友好,簡潔易用,適用于多用戶環(huán)境多項(xiàng)靈活可選擇的配置,可以適用于不同應(yīng)用的需求。
可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級(jí)
EBPG5150可以選擇不同的升級(jí)選項(xiàng),以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓的高校等研究類用戶也可以使用這款非常*、高自動(dòng)化的電子束光刻系統(tǒng)。
EBPG5150 應(yīng)用
· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件
· 微盤諧振器
· 開口環(huán)諧振器
EBPG5150 產(chǎn)品詳情
主要應(yīng)用:
· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu)
· 高速電子束直寫
· 批量生產(chǎn),如化合物半導(dǎo)體器件
· 防偽標(biāo)識(shí)
電子光學(xué)柱技術(shù):
· EBPG
· 電子束
· 100 kV
樣品臺(tái):
· 覆蓋完整6英寸硅片大小
· 標(biāo)配2工位自動(dòng)化上料(10工位可選)